A mesura que les empreses multipliquen el consum de models d'IA a través de núvols i passarel·les diverses, molts directius financers han perdut de vista quant costa realment aquest consum, repartit entre tokens, models i recursos de còmput compartits. És el forat de mercat que ha explotat Attribute, una startup israeliana fundada el 2023 per Izhak Zimmermann, com a conseller delegat, i Liad Tropp, com a director de tecnologia, tots dos exmembres de la Unitat 81 de l'exèrcit israelià.
DoiT, companyia nord-americana especialitzada a ajudar empreses a reduir la despesa en núvol, va anunciar el 17 d'agost la compra d'Attribute per una xifra estimada en 65 milions de dòlars, tot i que cap de les dues parts n'ha confirmat oficialment la valoració. La plataforma d'Attribute, que havia captat uns 13,5 milions de dòlars en una ronda inicial d'inversors israelians, permet atribuir la despesa en IA a nivell de cada equip, producte, funcionalitat, agent d'IA o client individual, en lloc de veure només una factura global. «Les organitzacions avui no poden veure ni entendre del tot què és realment la seva despesa en IA i núvol», ha declarat Zimmermann.
L'operació s'emmarca en una estratègia de creixement de DoiT que ja suma prop de 200 milions de dòlars en cinc compres des del 2025 -PerfectScale i Live Diagrams el gener del 2025, Cloudwise l'octubre del 2025, SELECT el gener del 2026 i ara Attribute-, totes orientades a la gestió financera del núvol i la IA (l'anomenat FinOps). El conseller delegat de DoiT, Vadim Solovey, ha xifrat que la despesa mensual en IA es podria triplicar en els propers dotze mesos, i que només un 15% dels directius enquestats és capaç avui de calcular-ne el retorn de la inversió.
Cap de les dues empreses no ha fet públics els termes exactes de l'acord, i la xifra de 65 milions prové d'estimacions de la premsa israeliana, no d'una confirmació oficial. Tampoc hi ha encara dades independents sobre si la integració d'Attribute a la plataforma de DoiT complirà les expectatives de creixement que l'empresa hi diposita.